富士混合式流量計產品介紹，TR-N2/3
該固定器含有鹵化銀和其它成分的溶劑，如下所示。
為了節省使用者稱重固定器成分的麻煩，
Fujifilm公司提供了現成的混合固定器Hi-Renfix(濃縮液)，
其配方是給goo的。D固定效果。
從固定槽中去除的薄膜不僅保留固定劑成分，
而且保留在溶解鹵化銀過程中形成的其他化合物。
要移除這些，膠卷要在運行w中沖洗。
20分鐘或更長時間。為了縮短洗滌時間，
富士公司開發了一種名為富士QW的洗滌加速器。
此富士QW可將洗滌時間縮短至三分或五分。
在不使用它的情況下。
當洗滌膜干燥時，處理完成。在洗滌步驟之后，
水以條紋和液滴附著到膜上。如果在該條件下干燥膜，
不僅干燥時間e應延伸，但在射線照片上會留下水痕。
為了減少干燥時間和防止水痕，富士膠片公司開發了一種叫做DRWEL的潤濕劑。
除上述加工化學品外，還可使用某些其他化學品。
當銀像密度過高時，使用一種叫做還原劑的化學溶液。
減少它。當銀像的密度太低時，用一種叫做增強器的化學溶液來增加它。
以上討論的一些處理化學品也用于X射線膠片的自動處理，
但是用于自動處理的顯影劑和固定器是專門的形式出于以下原因進行了說明。
（有關自動處理器的信息，請參見第6節“處理器”和第四章“自動處理”。)
在用于工業X射線薄膜的滾筒運輸型自動處理器（如富士FIP7000）中，
加工溶液的使用溫度（約30°C/86°F）高于手工加工。
為了加快速度。許多輸送輥被用來刮膜和從薄膜表面除去耗盡的溶液。
在自動處理器中使用的開發人員是speci。
在滾筒運輸型自動處理器中使用的固定器是專門配制的(如富士級FI)，
以便產生比在m中使用的固化劑更大的乳液硬化效果。
手工加工。顯影劑罐輸送輥減少了顯影劑運送到定影器的量。
這延長了固定器的壽命,盡管滾子的主要功能是通過處理器移動膠片。
停止浴不用于滾筒運輸式自動處理器，因為滾筒能充分地從薄膜表面去除顯影液。
這延長了固定器的壽命。比在手動處理中的程度大得多。
在輥式自動處理器中，固定器槽輥有效地從膜表面去除固定器，
并且清洗槽輥提供膜上的新鮮水的連續翻轉。
表面使得迄今尚未表達洗滌促進劑的必要性。
在輥式自動處理器中，輥有效地去除附著
在膜表面上的洗滌水，從而不需要潤濕劑。
攝影加工涉及兩個基本方向，即手工處理和自動處理。
在人工處理的情況下，加工化學品被放置在托盤和在這個過程中，
當托盤以反復的方式傾斜以引起反應時，就會引入薄膜，
或者將加工化學品放置在一個容器中，薄膜被懸浮起來。
從而使其能夠在溶液中再次移動并在溶液中再次移動。
具有托盤、溶液槽、懸掛器等手動加工物,e設備需要的E。
在這些類型的情況下，所使用的設備與化學品直接接觸，
因此必須由不被該化學品侵蝕的材料制成。
除了這些項目之外，還需要控制處理溶液溫度的設備。
在此類別中，某些類型的設備被直接放置到PROCE中。
諸如加熱器和在其它情況下使用恒溫浴的溶液是中心的。
自動干干機加工正變得更廣泛地接受，
因為攝影加工本身的穩定性提高，更不用說加工的增加。
處理步驟中的速度和縮寫。這些處理器大多包含相互或同時驅動的滾輪。
在這些類型的處理器中使用的處理步驟是developmentme。
NT、固定、洗滌、干燥由四個工序組成，共設有多個滾筒單元。
所有這些滾子都是以同樣的速度驅動的，因此它們一起轉動。
當膠片在它們之間運輸的時候，它也在被加工。
正常情況下，自動處理器中還包括諸如pro的溫度控制單元等設備。
處理溶液，烘干機加熱器，風扇和自動補液裝置。詳情見第四章“自動處理”。
X射線膠片的性能可以用多種方式表示.使用*廣泛的是特征曲線。
x射線膠片的特征曲線是指在g上產生的曲線。
如圖10所示，通過繪制圖像密度與x射線或伽馬射線曝光之間的相關性，
拉斐爾提供了信息。X射線膠片的速度、對比度(平均梯度)和霧。
由于x射線和伽馬射線的*強度難以測量，因此確定了相對曝光量及其對數ex。
當測井相對曝光沿圖形的水平軸繪制時，
相對密度按相等于水平軸的間隔沿垂直軸下線繪制。
特征曲線的形狀及其在圖形上的位置因不同類型的薄膜或輻射源而異。
此外，在不同的處理過程中，可以看到曲線的變化。
條件和相對于增強屏幕的存在或不存在。
通常，特征曲線被分成五個部分，如圖10所示：(1)未曝光位置；
感光術是指為曝光-密度關系建立的數值，
并確定膠片速度、對比度、霧和其他參數的科學。由特征曲線導出。
在處理過的膠片的未曝光區域出現了一種明顯的密度，這種密度稱為霧。
曝光不足的膜通常具有在由該部分指示的范圍內的密度。
適當曝光的膜通常具有主要由直線部分和趾部指示的范圍內的密度。對比度*接近直線部分。
過度暴露的膜通常具有主要由肩部和直線部分指示的范圍內的密度。
當曝光量過肩部指示時，密度甚至可能再次下降。
這部分不包括在用于形成攝影圖像的曝光中。
射線照相所用的術語速度是指X射線膠片對X射線或伽馬射線的靈敏度。
照相材料的速度通常由Ex的倒數(參見注釋)表示。
根據其特征曲線確定的位置，在給定的條件下，
在開發后得到一定的密度。因為相對曝光是用來繪制特征的。
X射線膠片的曲線，由它導出的速度也用一個相對值來表示，因此被稱為相對速度。
圖13顯示了四種類型的膜A、B、C和D的特性曲線，
它們暴露于X射線并在給定條件下進行處理。
通過鋪設密度繪制此圖形。垂直軸和沿水平軸的相對曝光間隔相等，
從水平軸左側的0.0開始。通過定位濃霧以上2.0的密度點在特征曲線上可以畫一條直線，
從這一點到水平線。與四種膠片的相對曝光量相比，
相對反對數是可以計算的。通過允許一種類型的膠片，
例如A，成為速度為100的參考膠片，
可以使用參考膠片獲得其他類型膠片的相對速度。
CE速度為100，反對數的倒數從水平軸讀取。
如此確定的四種類型的膜的相對速度示于表3中。
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