產(chǎn)品說明功率繼電器FUJI，TR-N3/3
膠片可能有一個(gè)輕微的密度，而不暴露在可見光，
X射線或伽馬射線.這種密度是在膜的乳劑中的鹵化銀部分還原成c時(shí)產(chǎn)生的。
全是霧。由于過一定限度的霧會(huì)對攝影圖像產(chǎn)生有害影響，
因此必須盡可能地抑制它。霧有許多原因，包括膠片儲(chǔ)存條件。
條件、開發(fā)人員的組成、開發(fā)條件和處理?xiàng)l件。
由光和壓力引起的可下垂密度也稱為霧。
e引起的不需要的密度暴露在安全光線下
(即使一種不影響敏感物質(zhì)的淺色在合理的時(shí)間
范圍內(nèi)作為安全光)被稱為安全光霧。
黃牛當(dāng)高壓作用在薄膜上時(shí)產(chǎn)生的密度稱為壓力霧。
所有這些由不理想的外部因素產(chǎn)生的霧都會(huì)對
光子晶體產(chǎn)生不利的影響。因此，必須始終防止圖像。
清晰度或銳度是用來表示不同密度之間的界限和
圖像中精細(xì)細(xì)節(jié)的清晰性的攝影術(shù)語。
*近利用空間頻率特性來表示圖像的清晰度。
空間頻率的概念來源于電子測量系統(tǒng)。
電子學(xué)例如，通過繪制我們所稱的頻率響應(yīng)曲線來表示揚(yáng)聲器的特性。
計(jì)算輸入與輸出（稱為響應(yīng)）的放大器比率每個(gè)變化的聲音頻率的ED，
頻率被放置在水平軸和響應(yīng)沿垂直軸。
因此，可以使用如圖16所示的頻率響應(yīng)曲線。獲得。
如果低音調(diào)聲音的再現(xiàn)性差，那么在低頻范圍內(nèi)的響應(yīng)是小的，
如果高音調(diào)的聲音不能忠實(shí)地再現(xiàn)，則在高頻率范圍內(nèi)的響應(yīng)是小的。
貨幣范圍很小。這一頻率響應(yīng)曲線是非常有用的評(píng)估質(zhì)量的再現(xiàn)聲音。
另一方面，在攝影中，頻率響應(yīng)曲線是用pl繪制的。
根據(jù)輸入-輸出比，將每mm的黑白線的數(shù)量
（這稱為音頻頻率類推之后的空間頻率），
即再現(xiàn)的IM的響應(yīng)以可見光或放射線為輸入的年齡。
該曲線在攝影中被稱為響應(yīng)函數(shù)或調(diào)制傳遞函數(shù)。
顯影后產(chǎn)生的照相圖像由直徑幾微米的銀粒子組成，
其直徑不規(guī)則地分布。這就是為什么拉多圖通常具有粒狀外觀的原因，
用肉眼觀察。這種外表被稱為顆粒。它是由發(fā)達(dá)的銀粒組成的團(tuán)塊，
而不是賦予粒狀外觀的單粒。谷物是一個(gè)主觀的東西。
戊印象，而其客觀方面稱為粒度..前者是由肉眼主觀決定的，
使用恒定的樣品照明或恒定的場亮度。
測定方法是相對于膠片的目的選擇的，但恒定樣品照度法*適合于X射線膠片。
另一方面，格羅爾性是物理的，是指光敏乳液的結(jié)構(gòu)，
它是由物理方法客觀地決定的。粒度在重復(fù)性和客觀性上優(yōu)于grai。
鎳作為衡量銀礦床分布變化的科學(xué)指標(biāo)。
利用Selwyn方法進(jìn)行傅里葉分析，確定了顆粒度。
Selwyn粒度G表示為微密度計(jì)測量孔徑的面積
A的平方根的乘積和給定平均密度D.Selwyn粒度的標(biāo)準(zhǔn)偏差。
Selwyn粒度但是，當(dāng)某些單獨(dú)的銀顆粒的面積大于測量孔的面積A時(shí)，
該公式不會(huì)導(dǎo)致G的恒定值。的粒度是單位D的值比Selwyn的常數(shù)更經(jīng)常地表示，
并且被稱為RMS粒度(均方根粒度)。RMS值越小，粒度越好
必須遵守工業(yè)X射線膠片所規(guī)定的標(biāo)準(zhǔn)，并考慮幾何因素
（例如，樣品對薄膜距離）對確定圖像質(zhì)量的影響。
設(shè)置X射線或伽瑪射線源、盒、標(biāo)本和透度計(jì)的排列。
還需要根據(jù)T進(jìn)行適當(dāng)?shù)钠毓夥椒ǖ南惹斑x擇。
所要檢驗(yàn)的材料和樣品的形狀或部分。
例如，在檢查焊管時(shí)，*合適的選擇應(yīng)該是從單一的射線照相。
方法、立體射線照相法和雙曝光（視差）法。
在工業(yè)射線照相中，為了滿足必要的圖像密度
和穿透儀確定的清晰度等要求，必須對曝光進(jìn)行測定。
X射線設(shè)備需要制造商規(guī)定的預(yù)熱期，如果是伽馬輻射源，
則需要確定其CI值。當(dāng)使用X射線時(shí)，就會(huì)有一種無線電攝影術(shù)。
管電流，和曝光時(shí)間）..普通曝光圖是通過沿水
平軸和曝光（MA·min）的厚度來繪制的。
或MA·sec.）或千伏電壓（。(KVP)然而，
建議根據(jù)每個(gè)案例的曝光條件繪制適當(dāng)?shù)钠毓鈭D表，
因?yàn)槠毓獾慕Y(jié)果隨X射線源的可變特性、聚焦距離、樣本材料和所需圖像。
密度。在圖18所示的情況下，從試樣的厚度確定千伏電壓，
并且在條件(mA·min)下進(jìn)行曝光。)由千伏確定。
在C中在圖19所示的ASE中，相對于樣品的厚度選擇強(qiáng)化屏幕，
并且以適合于所選擇的屏幕類型的千伏進(jìn)行曝光。
當(dāng)將X光膠卷從交錯(cuò)紙夾上取下時(shí)，不應(yīng)對交錯(cuò)紙施加不必要的壓力，
否則會(huì)留下劃痕和靜電痕跡。X光片。在曝光前將交錯(cuò)紙放在工作臺(tái)上，
因?yàn)樗鼙Ｗo(hù)膠卷不受污垢、鐵粉、濕氣、化學(xué)物質(zhì)和有機(jī)物質(zhì)的影響。
她的下流事。好的，均勻的屏幕和電影之間的接觸是非常重要的。
如果他們接觸不良，圖像清晰度將受到不利影響。
特別當(dāng)機(jī)箱是柔性的時(shí)，要注意屏幕和膠卷之間的良好接觸。
從真空盒式磁帶上取出膠卷時(shí)，用通過打開屏幕移除膠卷，
以避免屏幕和膠片之間的摩擦。
通過暴露于X射線、伽馬射線或光線而在X射線膠片
上產(chǎn)生的圖像在處理之前是不可見的，
但是當(dāng)浸沒在特殊處理溶液中時(shí)，會(huì)出現(xiàn)可見的圖像。
該P(yáng)ro處理步驟稱為開發(fā)。當(dāng)獲得期望密度和對比度的圖像時(shí)，
停止顯影。然后將該薄膜浸入停止槽中,停止該動(dòng)作,f顯影劑。
在停止浴之后，將所述膜浸入溶解所述敏感銀鹽的未改變部分的固定浴中。
如此處理的膜具有*圖像。%s在曝光后制作*圖像的TEPS被統(tǒng)稱為處理。
本節(jié)將處理手動(dòng)處理，稍后將在第四章中討論自動(dòng)處理。
顯影溫度和顯影時(shí)間對X線像密度和對比度有顯著影響。
必須將顯影劑保持在規(guī)定的溫度(通常為20°C/68°)。
f)在規(guī)定的時(shí)間內(nèi)進(jìn)行人工加工，并進(jìn)行開發(fā)。
當(dāng)顯影劑的溫度高于正常值時(shí)，
通過延長顯影劑獲得同樣的結(jié)果，發(fā)展時(shí)間，反之亦然。
然而，在任一種情況下，*理想的是將顯影劑的溫度保持
在18-23°C(64.4-73.4°F)的范圍內(nèi)。
隨著發(fā)展的發(fā)展每次開發(fā)人員的可能會(huì)有所不同，
請務(wù)必遵守制造商給出的說明。FujiHIRenolDeveloper
的時(shí)間和溫度規(guī)格為5分鐘和20°C(68°F).
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